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镍的电解抛光和化学抛光  

2006-12-31 15:11:46|  分类: 电镀 |  标签: |举报 |字号 订阅

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镍的电解抛光和化学抛光

一、电解抛光
    镍可以在下列溶液中进行电解抛光。其工艺规范列于表2-2-8。

表2-2-8  镍电解抛光的工艺规范
1 2 3 4
磷酸(H3PO4 65     750g/L
硫酸(H2SO4 15 72~75 70 900 g/L
铬酐(CrO3 6 2~3    
甘油(C3H3(OH)3   2~3    
柠檬酸(C3H4OH(COOH)3       60 g/L
柠檬酸铵((NH42C6H6O7       20 g/L
14 18~24 30  
密度 1.74 1.62~1.66 1.60~1.62  
电压/V 12~18 12~18 12 6~12
阳极电流密度/A·dm-2 30~40 30~40 30~40 15~20
温度/℃ 室温 室温 35~45 室温
时间/min 0.3~2 0.3~2 0.5~1.5 0.5~1
阴极材料 铅、不锈钢
注:配方1适用于镍镀层的抛光;
    配方2适用于镍镀层和镍基体的抛光;
    配方3适用于镍基体的抛光;
    配方4适用于镍和镍铁合金的抛光。

    溶液的配制方法可以参照钢铁零件电解抛光的相应部分。
二、化学抛光
    半光亮镀镍层可以在以下溶液中进行化学抛光:
    磷酸(H3PO4)(密度1.70) 60%(体积)
    硝酸(HNO3)(密度1.42)  20%(体积)
    硫酸(H2SO4)(密度1.84) 20%(体积)
    温度   80~85℃
    时间  1~3min

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